未找到相关数据
γ-Mo2N催化剂上H2及NO吸附性质的TPD-MS研究
被引：8
作者：
杨树武
纪纯新
徐江
阎卫宏
张耀军
应品良
辛勤
机构：
[1] 大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室!大连,大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室!大连,大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室!大连,大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室!大连,大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室!大连
来源：
关键词：
γ-Mo2N;
催化剂;
程序升温脱附技术（TPD）;
NO;
吸附;
活性位;
D O I：
暂无
中图分类号：
O643.3 [催化];
学科分类号：
070305 [高分子化学与物理];
摘要：
采用TPD-MS方法研究了H2及NO在γ-Mo2N上的吸附状况．单独的H2-TPD结果表明，当H2在673K吸附时，在443K、573K及723K得到了三个H2脱附峰，表明γ-Mo2N上有三种不同能量的H2吸附位．NO－TPD结果表明，NO吸附后亦有三个脱附峰（383K、493K、543K），对应着γ-Mo2N上三种不同能量的NO吸附位：低、中、高能吸附位．NO既可以以解离状态，又可以以一种NO三聚态（dimerordinitrosyl）的形式吸附在γ－Mo2N上，这些吸附物种在脱附过程中产生大量的N2及少量的N2O.对比NO吸附在不同处理条件的γ-Mo2N上的TPD结果可知，NO是吸附在γ-Mo2N上的MO的配位不饱和中心上，这些吸附中心既可通过还原催化剂，又可通过在773K抽空钝化态的γ－Mo2N而产生，H2和NO共吸附的结果表明，预吸附H2再吸附NO后，H2和NO的脱附量均大大减少，且只有两个脱附峰出现.NO只在363K及493K出现两个脱附峰，表明预吸附氢占据了NO的强吸附位，且NO很难取代它，从而使NO只能吸附在能量较低的吸附位上；而H2只在523K及723K出现两个脱附峰，且伴随着H2的脱出有N2和H2O的产生，表明在γ－Mo2N上NO可能与预吸附氢形成了一种复合相MoHx（NO）y,它在脱附时分解为H2、N2及H2O.
引用
收藏
页码：0 / 0+0
+0-0
页数：6
相关论文