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半导体IC清洗技术
被引：29
作者：
李仁
机构：
[1] 中国电子科技集团公司第四十五研究所北京
来源：
关键词：
湿法清洗;
RCA清洗;
稀释化学法;
IMEC清洗法;
单晶片清洗;
干法清洗;
D O I：
10.13290/j.cnki.bdtjs.2003.09.012
中图分类号：
TN405 [制造工艺];
学科分类号：
摘要：
介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
引用
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