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ICP-AES及AAS法测定痕量元素的化学前处理问题
被引:3
作者
:
钟攸兰
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0
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h-index:
0
钟攸兰
机构
:
来源
:
光谱学与光谱分析
|
1985年
/ 04期
关键词
:
痕量元素;
空白值;
检出限;
微量元素;
AAS;
AES;
ICP-AES;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
<正> 一、痕量分析1.痕量分析是测定化学药品和材料中的杂质来评定其纯度。痕量分析:杂质含量0.0001—0.01%。超痕量分析:杂质含量<0.0001%。2.微量分析是以试样量的多寡区别: 微量分析:0.001—0.01克。超微量分析:<0.001克。二、空白值、检出限、测定下限测定试样中某元素的检出限是取决于分
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