半导体光催化降解实际印染废水的研究

被引：22

作者：

蒋伟川，俞传明，王琪全

机构：

[1] 浙江大学化学系，浙江工学院化工系

来源：

工业水处理 | 1994年 / 02期

关键词：

印染废水，光催化降解;

D O I：

暂无

中图分类号：

X791.03 [];

学科分类号：

摘要：

以ＴｉＯ２为半导体催化剂，对实际印染废水在紫外光照射下的降解进行了研究。结果表明在紫外光太阳光照射下，实际印染废水能取得较好的降解效果，经生化处理后的印染废水更易于光催化降解，Ｈ２Ｏ２的加入对印染废水的降解有利。

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环境污染与防治, 1989, (04) :16-18+12+46

[2] 光催化法处理印染废水的研究 [J].

文学洙 ;

韩英哲 ;

沈承知 ;

金应世 ;

金英子 .

太阳能学报, 1985, (02) :201-203