共 1 条
弱碱性介质中氯离子对铜电极腐蚀行为的影响
被引：12
作者：
雷惊雷
李凌杰
蔡生民
张胜涛
李荻
杨迈之
机构：
[1] 北京大学化学与分子工程学院
[2] 北京航空航天大学材料科学与工程系
[3] 重庆大学应用化学系
[4] 北京大学化学与分子工程学院 北京
[5] 北京
[6] 重庆
来源：
关键词：
铜电极;
循环伏安法;
电化学阻抗谱;
椭圆偏光法;
腐蚀;
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
应用循环伏安法、Ｘ射线光电子能谱法、电化学阻抗谱法以及现场椭圆偏光法研究了在弱碱性介质中添加Ｃｌ－对铜电极腐蚀行为的影响．结果表明，Ｃｌ－的加入能加剧铜电极的腐蚀，使腐蚀电流以及现场椭圆偏振参数△的变化范围都增大１个数量级，Ｃｌ－对Ｃｕ２Ｏ的掺杂将使铜电极的表面膜变得疏松，膜的耐蚀性变差．椭圆偏光实验不仅与电化学和能谱实验的结果一致，而且还能定性地、清楚地分辨出铜电极腐蚀过程中Ｃｕ２Ｏ的生成、Ｃｌ－对Ｃｕ２Ｏ的掺杂、ＣｕＯ的生成等不同阶段；同时，利用恰当的模型还能定量地确定各个阶段铜电极表面膜的组成、厚度的变化，从而为研究铜电极的腐蚀与防护机理提供更多有用信息．
引用
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页数：5
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