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亚微米/深亚微米的栅氧清洗技术
被引：4
作者：
徐政
郑若成
何磊
机构：
[1] 中国电子科技集团公司第研究所,中国电子科技集团公司第研究所,中国电子科技集团公司第研究所江苏无锡,江苏无锡,江苏无锡
来源：
关键词：
清洗;
兆声;
颗粒;
ZETA电势;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.99 [其他];
学科分类号：
080508 [光电信息材料与器件];
摘要：
栅氧前清洗是栅氧工艺的重要部分,本文介绍二种适用于亚微米/深亚微米的清洗工艺: 采用稀释化学试剂和兆声波清洗的VCS清洗工艺和IMEC清洗工艺。
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