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基板负偏压对铜基体磁控溅射离子镀铝膜相组成的影响
被引：4
作者：
王玉魁
陈宝清
朱英臣
王斐杰
宋美丽
李国斌
机构：
[1] 大连工学院材料工程系离子镀研究室
来源：
关键词：
磁控溅射离子镀;
基板负偏压;
金属表面合金化;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。磁控溅射离子镀 铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铜和铝组成的合金膜。膜的相组成主要是由基板 负偏压所决定的。在一定的实验条件下，每一种铜－铝合金相的出现都有一临界负偏压 与之对应．
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