全息光栅实时显影监测曲线的理论模拟

在特定的工艺条件下 ,光刻胶的非线性效应非常显著 ;合理地利用非线性效应 ,能够制作出近似矩形的全息光栅掩模。为了分析清楚非线性效应对光栅沟槽成形的作用机理 ,有必要建立一个显影理论模型。模拟得到的光栅轮廓和实验样片的扫描电子显微镜照片结果很吻合。根据这个模型 ,进而使用光栅严格理论 ,得到其主要特征与实时监测实验曲线一致的理论模拟监测曲线。理论分析和实验证实 ,该模型基本表征了工艺条件对光栅沟槽形状的影响 ,并揭示了光刻胶呈现显著非线性效应时 ,必然对应着明暗条纹中心位置之间的显影刻蚀速率相差很大。这个模型为全息光栅的工艺研究提供了一个有效的理论分析工具。