交流电弧微观动态形成机理及影响因素

被引：15

作者：

李静 ^{[1
]}

曹云东 ^{[1
]}

侯春光 ^{[1
]}

薄凯 ^{[2
]}

于龙滨 ^{[3
]}

机构：

[1] 沈阳工业大学电器新技术与应用研究所

[2] 哈尔滨工业大学军用电器研究所

[3] 国网辽宁电力科学研究院设备状态评价中心

来源：

电工技术学报 | 2015年 / 30卷 / 17期

关键词：

真空; 动态电弧; 微观机理; 工频; 鞘层;

D O I：

10.19595/j.cnki.1000-6753.tces.2015.17.005

中图分类号：

TM501.2 [];

学科分类号：

080801 ;

摘要：

为揭示真空电弧的微观动态形成机理及其影响因素,利用气体动力学模型研究真空断路器触头间的电弧形成过程。采用的数学模型包括电子和正负离子漂移扩散方程、微观粒子的碰撞方程及电场的泊松方程。建立触头间距为10 mm,触头间电压分别为工频交流12 k V和400 V的真空断路器简化模型,通过仿真得到工频真空电弧形成过程和鞘层形成过程的电子密度、平均电子能量及碰撞能量损失分布等各项微观参数的时变规律,并计算电子迁移率、金属蒸气压力和初始电子密度对真空电弧形成过程的影响。仿真结果表明:粒子运动速度差异形成的鞘层是电弧形成的基础;高电压、强电场作用促使电子能量产生轴向集中;电子迁移率及金属蒸气压力影响电弧形成过程;而初始电子密度对真空电弧弧前导电通道形成过程的影响可忽略。

引用

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页数：10

共 16 条

[1] 高气压直流辉光CH4/H2等离子体的气相过程诊断 [J].