磁流变抛光数学模型的建立

被引：40

作者：

张峰

张学军

余景池

王权陡

郭培基

机构：

[1] 中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室!吉林长春

[2] 不详

[3] 中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国

来源：

光学技术 | 2000年 / 02期

关键词：

磁流变抛光; 抛光区; 磁化强度;

D O I：

10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.02.032

中图分类号：

TG175 [金属电抛光及化学抛光];

学科分类号：

摘要：

介绍了近年来的一种新兴的光学加工技术———磁流变抛光 (MRF)。以Preston方程为依据建立了这种抛光方法的数学模型。利用该数学模型详细分析了被加工工件表面材料去除率与压力参数P成正比的关系 ,指出了工件表面所受的压力P主要是由流体动压力Pd 和磁化压力Pm 两部分组成的。以用磁流变抛光方法加工凸球面工件为例 ,具体推导出流体动压力Pd 和磁化压力Pm 的数学表达式 ,并通过实验对压力P的数学表达式及抛光模型的合理性进行了验证。

引用

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