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亚半微米投影光刻的自动对准技术
被引：10
作者：
程建瑞
机构：
[1] 电子工业部第四十五研究所
来源：
关键词：
自动对准，相位光栅，激光步进对准，激光干涉对准，暗场，明场，同轴离轴;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
080508 [光电信息材料与器件];
摘要：
主要介绍了国外用于生产型亚半微米分步投影曝光机的几种自动对准技术。通过分析对比，指出了相位光栅自动对准技术是我所研制下一代分步曝光机最具吸引力的方案。
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页数：6
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