高精度光栅刻划中的综合误差修正技术

被引:1
作者
陈骥,杨世雄,顾庆祥,余红
机构
[1] 重庆大学光电精密仪器系
关键词
光栅;刻划;综合误差;修正;
D O I
暂无
中图分类号
TH74 [光学仪器];
学科分类号
0803 ;
摘要
在用线性系统和随机过程理论分析光刻机误差传递特性的基础上,采用时间序列分析法建立误差的数学模型,提出了综合误差修正的新方法,介绍了微机综合误差实时修正系统的电路结构与工作原理。其主要特点是,不仅能修正系统误差,而且能够根据对随机误差的预报来修正相关的动态误差。实验结果表明,系统修正精度达到±0.1μm。
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共 2 条
[1]   高精度长光栅动态光刻机定位误差校正 [J].
杨世雄 ;
顾庆祥 ;
陈骥 .
传感技术学报, 1988, (01) :26-34
[2]  
时间序列及系统分析与应用.[M].(美)潘迪特(Pandit;S.M.);(美)吴宪民著;李昌琪;荣国俊译;.机械工业出版社.1988,