低压铜基甲醇含成催化剂活性表面的XPS和TPD表征

被引：6

作者：

陈鸿博

蔡俊修

张鸿斌

蔡启瑞

机构：

[1] 厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系物理化学研究所,物理化学研究所,物理化学研究所,物理化学研究所

来源：

厦门大学学报(自然科学版) | 1990年 / 04期

关键词：

甲醇合成; 铜基催化剂; XPS,TPD;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

对用共沉淀法制备并经氢预还原活化的三组份 Cu-ZnO-Al2O3 和四组份Cu-ZnO-Al2O3-M2O3(M=Sc3+、Cr3+或In3+)铜基甲醇合成催化剂进行 XPS,XPS-Augcr,TPD谱表征及CO吸附量测定,研究铜基甲醇合成催化剂活性表面铜的化学态。根据原子价补偿原理及本实验结果,在温和还原条件下,催化剂活性表面存在少量Cu+,它是 CO、H2 的吸附活性位。

引用

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