用于立体光刻技术的阳离子及混杂光聚合体系的研究

被引：7

作者：

孟怀东

阴金香

林天舒

洪啸吟

机构：

[1] 清华大学化学系!北京

来源：

辐射研究与辐射工艺学报 | 2000年 / 01期

关键词：

立体光刻; 阳离子光聚合反应; 混杂光聚合反应;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB324 [高分子材料];

学科分类号：

070305 ;

摘要：

研究了阳离子及混杂光聚合体系中引发剂、齐聚物、稀释剂的组成及浓度变化对光聚合反应速度、凝胶率及其性能的影响，并对混杂型树脂进行了立体光刻的应用研究。

引用

页码：19 / 24

页数：6

共 6 条

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