MoO3/γ-Al2O3催化剂单分子层特性的表征

被引：18

作者：

张谊华

徐奕德

石映祯

倪月琴

机构：

[1] 中国科学院大连化学物理研究所

来源：

催化学报 | 1987年 / 01期

关键词：

催化剂体系; Al2O3; XPS; 低温; 孔径范围; 相对强度; MoO3; 氧吸附; 单分子层; 单分子膜; 孔体积; 孔容;

D O I：

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中图分类号：

学科分类号：

摘要：

采用TPR,氧吸附,UV-VIS光谱,XRD和XPS技术研究了MoO3/γ-Al2O3催化剂的单分子层特性。当MoO3含量低于16wt%时,MoO3处于高分散状态。低温氧吸附和XPS相对强度比表明:MoO3在γ-Al2O3担体上的饱和单分子层容量分别为5.2和5.5μmol/m2（BET）。超过单分子层饱和容量,则首先形成Al2（MoO4）3晶粒。随着MoO3含量增加,孔大小分布也受到很大的影响。由于Mo离子的聚结,当MoO3含量增高时,小孔对总孔体积的贡献明显地减少。

引用

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共 3 条

[1] 应用XPS研究MoO3在TiO2,λ-Al2O3和SiO2等载体表面上的分散量和表面状态 [J].