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光纤光栅反射特性及相位掩模法制作的理论分析
被引:4
作者
:
郁可
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0
机构:
武汉工业大学光纤中心
郁可
张永胜
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机构:
武汉工业大学光纤中心
张永胜
姜德生
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机构:
武汉工业大学光纤中心
姜德生
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机构:
吴锡琪
机构
:
[1]
武汉工业大学光纤中心
[2]
武汉工业大学计算机系
来源
:
光电子·激光
|
1998年
/ 04期
关键词
:
光纤光栅;耦合模理论;相位掩模;近场光强分布;
D O I
:
10.16136/j.joel.1998.04.002
中图分类号
:
TN253 [光纤元件];
学科分类号
:
0702 ;
070207 ;
摘要
:
在对光纤光栅折射率分布进行合理假设的基础上,运用耦合模理论计算了光纤光栅的反射特性,对其反射特性与相关参数的关系进行了分析,并且还推导出了用相位掩模法制造光纤光栅的理论根据,得到了一些有益于光纤光栅制造的结论和有用公式。
引用
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