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低温BiCMOS电路的优化设计
被引:1
作者
:
吴金,魏同立
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南京东南大学微电于中心
吴金,魏同立
机构
:
[1]
南京东南大学微电于中心
来源
:
低温与超导
|
1995年
/ 04期
关键词
:
BiCMOS电路,延迟,优化设计,低温;
D O I
:
10.16711/j.1001-7100.1995.04.004
中图分类号
:
TN433 [BICMOS(双极-MOS混合)集成电路];
学科分类号
:
080903 ;
1401 ;
摘要
:
该文根据新建立的BiCMOS门电路延迟模型.从器件性能和电路工作状态两个层次上分析了低温BiCMOS门电路的优化设计,得到了物理意义清晰、可靠的结论,并且所提出的理论和方法,对高速BiCMOS低温电路的设计具有实际指导意义.
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页码:18 / 26
页数:9
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