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自主研发投入、国际技术溢出路径与区域技术创新水平——基于“制度质量”视角的动态门限模型分析
被引：4
作者：
聂秀华
吴青
机构：
[1] 对外经济贸易大学国际经济贸易学院
来源：
关键词：
自主研发投入;
国际技术溢出路径;
区域技术创新;
动态面板模型;
动态门限效应;
D O I：
暂无
中图分类号：
F124.3 [技术发展与革新];
学科分类号：
0201 ;
020105 ;
摘要：
利用2006—2017年省际(除港、澳、台)面板数据,通过构建静、动态面板模型和动态门限模型对自主研发投入、国际技术溢出路径对区域技术创新的影响效应以及其非线性关系进行检验。结果表明:各路径对区域技术创新水平的"激励效应"显著,且后者的"激励效应"更强;基于技术溢出路径的差异,自主研发投入只有在较高制度质量环境下才能激发其对区域技术创新的"激励效应",而外商直接投资与对外贸易对区域技术创新的"激励效应"均随制度质量的提高而增强,但对外直接投资的"激励效应"却伴随制度质量的提高而减弱。
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