一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法

被引：2

作者：

冯仕猛

赵海鹰

黄梅珍

范正修

邵建达

窦晓鸣

机构：

[1] 上海交通大学物理系,上海交通大学物理系,上海交通大学物理系,中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院上海光学精密机械研究所,上海交通大学物理系上海,上海,上海,上海,上海,上海

来源：

光学学报 | 2003年 / 08期

关键词：

薄膜光学; 多层膜; X射线衍射强度; 粗糙度;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

提出一个利用多层膜小角X射线衍射谱衍射峰积分强度计算多层膜界面粗糙度的公式。用磁控溅射技术制备Mo/Si多层膜 ,用波长为 0 .15 4nm的硬X射线测量样品在小掠入射角区的衍射曲线 ,分别用本文公式和反射率曲线拟合方法计算了样品的界面粗糙度。实验结果表明 :由本文公式获得的界面粗糙度近似于拟合方法获得的界面粗糙度 ,它们略等于多层膜界面实际粗糙度

引用

页码：980 / 983

页数：4

共 8 条

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