高速沉积非晶硅氢合金薄膜的研究

被引：6

作者：

林璇英

林揆训

余云鹏

曾旭

陈家宜

王洪

吴萍

机构：

[1] 汕头大学物理系

[2] 汕头大学物理系汕头本刊通讯编委

[3] 汕头

来源：

功能材料 | 1992年 / 05期

关键词：

非晶硅氢合金; 沉积速率; 光敏性;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

在一个等离子体化学气相沉积(PCVD)系统中,用射频辉光放电分解纯硅烷,通过控制和选择工艺条件,可以制备速率大于1.0nm/s,光敏性大于10～5的优质非晶硅氢合金薄膜。

引用

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页码：280 / 283+318 +318

页数：5

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共 4 条

[1]

Scott B A,Brodsky M H,Green D C et al. Applied Physics Letters . 1980

[2]

Knights J C,Lujan R A,Rosenblum M P et al. Applied Physics Letters . 1981

[3]

Hamasaki T,Vedn M,Chayahara A et al. Applied Physics Letters . 1984

[4]

Kato S,Aoki T. Journal of Non crystalline Solids . 1985