学术探索
学术期刊
新闻热点
数据分析
智能评审
立即登录
XeCl(308nm)脉冲准分子激光淀积类金刚石薄膜
被引:6
作者
:
李铁军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
西北核技术研究所高功率准分子激光实验室
李铁军
刘晶儒
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
西北核技术研究所高功率准分子激光实验室
刘晶儒
王丽戈
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
西北核技术研究所高功率准分子激光实验室
王丽戈
机构
:
[1]
西北核技术研究所高功率准分子激光实验室
来源
:
光学学报
|
1997年
/ 03期
关键词
:
类金刚石薄膜,XeCl激光,脉冲激光淀积;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O484.4 [薄膜的性质];
学科分类号
:
摘要
:
利用XeCl(308nm)脉冲准分子激光淀积技术在功率密度5×108W/cm2、室温、真空度10-3Pa的条件下,制备出不含氢成分的类金刚石薄膜,研究了类金刚石薄膜的特性及其随制备工艺条件的变化规律。研究了激光诱导的碳等离子体发射光谱,探讨了类金刚石薄膜的形成机理。
引用
收藏
页码:77 / 83
页数:7
相关论文
未找到相关数据
未找到相关数据