红外焦平面阵列非均匀性的两点校正及依据

被引：22

作者：

刘会通

易新建

机构：

[1] 华中科技大学光电子工程系

[2] 华中科技大学图像识别与人工智能研究所湖北武汉　

[3] 湖北武汉　

来源：

关键词：

红外焦平面阵列; 非均匀性; 线性校正;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN219 [红外技术的应用];

学科分类号：

摘要：

以Planck辐射定律和红外探测元的线性响应模型为基础,在理论上完整地推导了红外焦平面阵列非均匀性的两点校正方法;据此,论证了两点校正方法的物理依据,即从理论上证明如果探测元是线性和稳定响应的,该方法则可以实现非均匀性的准确校正;初步分析了非均匀性校正中存在误差的问题。

引用

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