磁控反应溅射制备大面积掺锡氧化铟薄膜工艺探讨

被引：5

作者：

杨绍群

沈祖贻

机构：

[1] 秦皇岛工业技术玻璃厂

[2] 秦皇岛工业技术玻璃厂秦皇岛市

[3] 秦皇岛市

来源：

关键词：

反应溅射; ITO薄膜; 工艺;

D O I：

10.13385/j.cnki.vacuum.1991.01.006

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

本文主要介绍磁控反应溅射制备大面积ＩＴＯ薄膜（掺锡氧化铟透明导电薄膜）的导电原理、成膜过程、工艺参数的选择以及不同工艺参数对产品性能的影响。实验结果表明：选择各种合理的工艺参数能够获得不同产品需要的ＩＴＯ薄膜。

引用

页码：20 / 26

页数：7