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晶化对A-Si:H膜中氢含量及键合形式的作用
被引:9
作者:
何宇亮
颜永红
机构:
[1] 南京大学固体物理研究所
来源:
关键词:
键合;
晶化过程;
A-Si;
多晶结构;
氢含量;
Si;
D O I:
暂无
中图分类号:
学科分类号:
摘要:
本文研究了A-Si:H薄膜中氢原子总含量及硅-氢键合形式随薄膜中晶化程度的变化规律。指出,当晶粒大小为200±50A范围氢含量陡然下降,硅-氢键合由Si-H明显地向Si-H2转化。认为,200±50A是微晶硅膜向多晶硅膜转化的一个相交点。
引用
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页数:3
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