晶化对A-Si:H膜中氢含量及键合形式的作用

被引:9
作者
何宇亮
颜永红
机构
[1] 南京大学固体物理研究所
关键词
键合; 晶化过程; A-Si; 多晶结构; 氢含量; Si;
D O I
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学科分类号
摘要
本文研究了A-Si:H薄膜中氢原子总含量及硅-氢键合形式随薄膜中晶化程度的变化规律。指出,当晶粒大小为200±50A范围氢含量陡然下降,硅-氢键合由Si-H明显地向Si-H2转化。认为,200±50A是微晶硅膜向多晶硅膜转化的一个相交点。
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共 1 条
[1]   G.D.非晶硅薄膜中掺硼的作用 [J].
吴汝麟 ;
何宇亮 ;
沈宗雍 ;
颜永红 ;
不详 .
科学通报 , 1983, (08) :460-463