离子束溅射沉积Ta2O5光学薄膜的实验研究

被引：9

作者：

刘洪祥

熊胜明

李凌辉

张云洞

机构：

[1] 中国科学院光电技术研究所

[2] 中国科学院光电技术研究所四川成都

[3] 四川成都

来源：

光电工程 | 2004年 / 03期

关键词：

离子束溅射; 光学薄膜; 离子辅助沉积; 光学特性;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.4 [薄膜的性质];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响。结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加。但是,通过优化辅助离子源中氧气的比例,可获得合理化学剂量比、低损耗的Ta2O5薄膜。

引用

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