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薄膜物理乃其应用讲座第四讲立方氮化硼薄膜的研究现状及其应用前景
被引:10
作者
:
宋志忠,郭永平,张仿清,陈光华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
兰州大学物理系
宋志忠,郭永平,张仿清,陈光华
机构
:
[1]
兰州大学物理系
来源
:
物理
|
1995年
/ 05期
关键词
:
立方氮化硼薄膜;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O484.5 [薄膜测量与分析];
学科分类号
:
080501 ;
1406 ;
摘要
:
立方氮化硼(c-BN)具有一系列优异的物理化学性质,如高的硬度,宽的带隙,高的电阻率,高的热导率,高的热稳定性、化学稳定性,在力学、光学和电子学等方面有广泛的应用前景。从立方氮化硼薄膜的性质,制备方法,目前研究工作的进展,存在的主要问题,以及应用前景等方面介绍这种新型功能材料。
引用
收藏
页码:307 / 312+319
页数:7
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