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GaP、Si和Ge在高压下的金属化相变及其测定方法
被引:11
作者
:
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
鲍忠兴
论文数:
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机构:
张芝婷
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
俞汀南
机构
:
[1]
中国科学院物理研究所
来源
:
科学通报
|
1984年
/ 14期
关键词
:
金刚石压砧;
Si;
平行电极;
相变压力;
金属化;
Ge;
GaP;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
<正> 一、引言 近些年来,第Ⅳ族元素和Ⅲ—Ⅴ族化合物在高压下由半导体转变成金属的研究已引起人们很大的兴趣。在1973年,Van Vechten根据电负性的量子电介质理论计算了一些第Ⅳ族元素和Ⅲ—Ⅴ族化合物的P-T相图。在这前后,人们已在几种不同类型的高压装置上,采用不同的测量方法观测到一些具有共价键的第Ⅳ族元素和Ⅲ—Ⅴ族化合物在高压下由半
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页码:846 / 849
页数:4
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