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用拉伸和二次曝光法制作基于莫阿光纤光栅的带通滤波器附视频
被引：8
作者：
周凯明
安贵仁
葛璜
王圩
机构：
[1] 中国科学院半导体所国家光电子工艺中心
来源：
关键词：
光纤莫阿－布喇格光栅；滤波器；二次曝光;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN25 [波导光学与集成光学];
学科分类号：
0702 ;
070207 ;
摘要：
我们利用一块均匀掩膜版，通过对光纤拉伸和二次紫外曝光的方法制作了一基于莫阿－布喇格光纤光栅的带通滤波器，其带通宽度为０．２８ｎｍ．我们对这种方法制作的莫阿－布喇格光栅作了理论分析．在此文中，还给出了均匀光纤光栅的拉伸特性．
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