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软基片上ITO薄膜的光电特性
被引：4
作者：
陈猛
白雪冬
黄荣芳
闻立时
机构：
[1] 中国科学院金属研究所!沈阳
[2] 不详
来源：
关键词：
ITO;
聚脂膜;
电阻率;
透射率;
反应窗口;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN304 [材料];
学科分类号：
摘要：
利用直流反应磁控溅射技术，室温下在聚脂膜基片上制备了优良的ITO透明导电薄膜．研究了沉积速率，靶基距，氧流量以及厚度对薄膜光电性能的影响．所得薄膜的最低电阻率为4．23×10-4Ω·cm，可见光区平均透射率大于78％．对应于低电阻率（～10-4Ω·cm）和高透射率（～78＄）的反应窗口较文献中已报道的数据明显扩大．
引用
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