TiAlN/Ti多元复合涂层的界面结构

被引：10

作者：

熊仁章

夏立芳

白羽

雷廷权

机构：

[1] 五二研究所宁波分所!浙江宁波

[2] 哈尔滨工业大学!黑龙江哈尔滨

来源：

材料科学与工艺 | 2000年 / 02期

关键词：

多弧离子镀; TiAlN多元复合涂层; 界面结构;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174.453 [陶瓷复层];

学科分类号：

摘要：

利用多弧离子镀方法 ,在HSS钢基体上沉积了TiAlN/Ti多元复合涂层 ,通过AES、XTEM以及EDS等手段 ,研究了涂层的界面结构 .结果表明 ,在TiAlN -Ti界面、Ti-HSS界面分别存在Ti2 AlN和FeTi界面相 ,Ti2 AlN是在涂镀过程中直接沉积而来 ,而FeTi界面相则是通过扩散作用生成的 ,它的基体中的M有一定的位相关系 .

引用

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