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铁氰化镍膜的分子组成及电化学行为
被引：1
作者：
王政萍，蒋勉，周性尧
机构：
[1] 武汉大学化学系
来源：
关键词：
普鲁士蓝，铁氰化镍，电化学行为;
D O I：
10.14188/j.1671-8836.1995.04.005
中图分类号：
O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];
学科分类号：
080501 ;
1406 ;
摘要：
研究了沉积在玻碳（ＧＣ）基体上的铁氰化镍（ＮｉＨＣＦ）膜的电化学行为，详细分析了制备条件对膜的循环伏安（ＣＶ）行为的影响，结合能量色散Ｘ射线（ＥＤＸ）分析技术，提出膜是可溶组分Ｋ２ＮｉＦｅ（ＣＮ）６和不可溶组分Ｎｉ２Ｆｅ（ＣＮ）６共存的混合态，精确控制沉积条件，可分别获得不同组分占优势的膜．在此基础上研究了两组分的电化学特征，初步探讨了不可溶组分的电化学反应机制，得到描述其电极反应的方程式为：
引用
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页码：417 / 422
页数：6
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