IC晶片关键尺寸标定的新方法研究

被引：4

作者：

薛向东

吴黎明

邓耀华

伍冯洁

何仲凯

机构：

[1] 广东工业大学信息工程学院

来源：

半导体技术 | 2005年 / 12期

基金：

广东省科技计划;

关键词：

标准件; 像素当量; 空间矩; 亚像素; 尺寸标定;

D O I：

10.13290/j.cnki.bdtjs.2005.12.012

中图分类号：

TN405 [制造工艺];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

提出了一种基于标准件法的二次标定法,实现了对微距尺寸的高速高精度测量。该方法经过实验测量数据的分析对比,表明比标准件法测量精度有明显提高,满足了IC晶片线宽测量的精度要求。

引用

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页码：35 / 37+43 +43

页数：4

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共 4 条

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