PCVD TiN膜的界面制备及性能

被引：11

作者：

黄鹤

朱晓东

徐可为

何家文

机构：

[1] 西安交通大学!西安,,西安交通大学!西安,,西安交通大学!西安,,西安交通大学!西安,

来源：

稀有金属材料与工程 | 1999年 / 06期

关键词：

PCVD; TiN; 界面; 镀层; 结合强度; 腐蚀; 磨损;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174 [腐蚀的控制与防护];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

用TiCl4作为反应气体制备PCVDTiN镀层，对降低界面的氧含量，改善PCVDTiN镀层的界面性能进行了研究。在镀层制备过程中增加了界面制备过程，即采用氩离子轰击以及氢的反应使界面的氯含量降低，膜基界面得到改善。结果表明，与常规PCVD制备的TiN镀层相比，膜层的结合强度有大幅度的提高，耐磨性和耐蚀性均有改善，特别是其耐蚀性达到甚至超过奥氏体不锈钢的水平。

引用

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