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一种新型微透镜阵列成象式投影光刻系统的研究
被引：7
作者：
崔崧
高应俊
阮驰
郝爱花
机构：
[1] 中国科学院西安光学精密机械研究所,中国科学院西安光学精密机械研究所,中国科学院西安光学精密机械研究所,中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学技术国家重点实验室,瞬态光学技术国家重点实验室,瞬态光学技术国家重点实验室,瞬态光学技术国家重
来源：
关键词：
微透镜阵列;
光刻胶熔融法;
离子束刻蚀法;
光刻;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
1401 ;
摘要：
从理论和实验两方面入手 ,系统地研究了微透镜阵列的形成原理和制作工艺 ,分析了微透镜阵列的面形结构 ,得到了联系微透镜阵列矢高与制作工艺参量的经验公式 .并且将四片微透镜阵列耦合 ,形成一个深紫外光刻的 1 :1成象的多孔径微小光刻系统 .从几何光学理论出发 ,分析了这个光刻系统综合成象的特点 ,讨论了这种光刻系统的光学性能 ,并给出了实验测量方法
引用
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页码：769 / 773
页数：5
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