离子束增强沉积形成梯度薄膜

被引：9

作者：

柳襄怀，杨根庆，王曦，郑志宏，黄巍，邹世昌

机构：

[1] 中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室

来源：

关键词：

离子束增强沉积，氮化硅，梯度薄膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174.44 [金属复层保护];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

在金属衬底（Ａｌ、钢、铝－碳纤维、Ｎｉ３Ａｌ）上用离子束增强沉积形成氮硅化物的梯度薄膜．在薄膜的一侧有很高的电阻（１０７Ω），而在另一侧电阻根低（１Ω），在绝缘层和导电层之间电阻呈梯度变化．对梯度薄膜的组分、硬度、附着力、疲劳寿命、抗腐蚀能力和抗高温氧化性能进行了测试和分析．

引用

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