光学元件聚氨酯抛光特性研究

被引：6

作者：

李亚国 ^{[1
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王健 ^{[1
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许乔 ^{[1
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杨炜 ^{[2
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周治鑫 ^{[1
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郭隐彪 ^{[2
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机构：

[1] 成都精密光学工程研究中心

[2] 厦门大学机电工程系

来源：

光电工程 | 2008年 / 11期

关键词：

聚氨酯; 材料去除率; 元件表面面形; 表面粗糙度;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

本文研究了应用于平面光学元件的快速抛光技术,从材料去除率、元件面形和表面粗糙度出发,对快速抛光技术应用于平面大口径元件的加工效果进行了探讨。研究了在快速抛光技术中压力和主轴转速对材料去除率的影响,验证了Preston公式在快速抛光中的适用性,快速抛光技术的去除效率可达10μm/h;其次,研究了聚氨酯抛光元件面形的精度,对于330mm×330mm元件可达～1.0λ(λ=632.8nm);最后,对快速抛光系统中抛光粉颗粒大小及形态随使用时间的变化进行了观测,并测量了使用300目和500目抛光粉时快速抛光元件表面粗糙度以及其随抛光粉使用时间的变化。

引用

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