论材料科学的理论基础

被引:30
作者
程开甲
程漱玉
机构
[1] 西北核技术研究所
关键词
电子密度,界面,边界条件,EOS,内应力;
D O I
暂无
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
082905 [生物质能源与材料];
摘要
材料特性不仅取决于薛定谔方程的相互作用项,也决定于自由表面和不同材料界面处的边界条件。界面两侧材料电子密度的不同在材料中产生巨大的内应力,甚至形成新相,起到触媒作用。作者提出了改进的TFD模型计算状态方程和合金生成能的新的计算方法,对一些二元、三元合金进行了详细的分析和计算,所得计算结果与实验测量值符合得很好。当多组元材料的尺寸达到位错不能存在的极限尺度时,材料的大多数性质类似于均匀化合物,这类材料可以被看作为“冷化学”化合物。
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科学通报, 1978, (04) :217-224