二元光学元件的制作技术与进展

被引：9

作者：

张羽

杨坤涛

杨长城

机构：

[1] 华中科技大学光电系

[2] 华中光电技术研究所湖北武汉

[3] 湖北武汉

来源：

光学仪器 | 2005年 / 02期

关键词：

二元光学; 制作工艺; 刻蚀; 直写法;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN256 [集成光学器件];

学科分类号：

0702 ; 070207 ;

摘要：

综述了二元光学元件的常用制作工艺技术,包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法。分析了这些方法的优缺点,并对其制作技术的发展进行了评述。

引用

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页数：6

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共 2 条

[1]

二元光学[M]. 国防工业出版社 , 金国藩等著, 1998

[2]

Optical properties of a Si binary optic microlens for infrared ray .2 Fujikawa K,Hirakawa G,et al. I EEE . 1997