大气颗粒物采样膜本底值的研究

被引：2

作者：

朱光华

机构：

[1] 北京师范大学低能核物理研究所

[2] 北京市辐射中心

[3] 射线束与材料改性教育部重点实验室

来源：

过程工程学报 | 2006年 / 6(S2)卷 / S2期

关键词：

PIXE分析; 大气颗粒物; 采样膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

X513 [粒状污染物];

学科分类号：

0706 ; 070602 ;

摘要：

用PIXE分析技术对6种在大气颗粒物采样中常用的膜(特弗纶膜,瓦特门膜,核孔膜,迈拉膜,聚氯乙烯膜和石英膜)的本底杂质元素的含量进行了测定.结果表明一些膜中含有PIXE分析灵敏元素(即原子序数Z≥12)的量极低,它们对大气颗粒物分析结果的影响可以忽略,一些膜中的含量不能忽略,一些膜不适合用于PIXE分析.

引用

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