大视场投影光刻物镜的畸变特性检测

被引：9

作者：

马韬

沈亦兵

机构：

[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州,杭州

来源：

光子学报 | 2005年 / 01期

关键词：

光刻; 畸变检测;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

畸变特性是光刻物镜的关键指标 ,目前少有报道 ,提出了一种大视场投影光刻物镜畸变测量原理 ,测量系统和测量数据的处理方法利用该装置对研制的口径 6英寸 ,分辨率 3μm的物镜进行了测量 ,得出该物镜在全视场的畸变值小于 2 .0 μm

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[1] 物镜象差对分辨率影响的一种测量分析法 [J].

沈亦兵 ;

杨国光 .

光子学报, 1999, (02) :3-5