电弧离子镀基体沉积温度计算

被引：2

作者：

黄美东

林国强

董闯

孙超

黄荣芳

闻立时

机构：

[1] 大连理工大学三束国家重点实验室,大连理工大学三束国家重点实验室,大连理工大学三束国家重点实验室,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所辽宁大连中国科学院金属研究所,辽宁沈阳,辽宁大连,辽宁大连,辽宁沈阳

来源：

关键词：

计算; 基体温度; 电弧离子镀;

D O I：

10.13289/j.issn.1009-6264.2001.04.019

中图分类号：

TG174.444 [真空镀与气相镀法];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

较详细地考察了电弧离子镀时影响基体沉积温度的因素及影响程度 ,应用能量平衡原理建立了计算基体沉积温度的数学模型。采用该计算模型分析了基体材质、形状与电弧离子镀膜工艺参数改变时基体温度的变化 ,经实验验证 ,模型计算与实验数据基本吻合。

引用

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