光化学还原过程中纳米TiO2表面Hg（Ⅱ）的吸附与脱附

被引：10

作者：

司士辉

杨政鹏

刘波

机构：

[1] 中南大学化学化工学院,中南大学化学化工学院,深圳大学应用化学系长沙,长沙,深圳

来源：

中国有色金属学报 | 2005年 / 09期

关键词：

纳米TiO2; 吸附; 光化学还原; 石英晶体微天平;

D O I：

10.19476/j.ysxb.1004.0609.2005.09.026

中图分类号：

O647.3 [吸附];

学科分类号：

070305 [高分子化学与物理];

摘要：

采用石英晶体微天平现场技术研究了Hg(Ⅱ)离子在纳米TiO2表面的吸附及光化学还原过程。结果表明:Hg(Ⅱ)离子借助于纳米TiO2表面羟基发生吸附,吸附平衡常数约为3.9×105L/mol,且Hg(Ⅱ)离子的吸附量受溶液的pH值、浓度和共存阴离子的影响;在pH值为4的HgCl2溶液中,Hg(Ⅱ)离子在纳米TiO2上的饱和吸附量约为0.85 mmol/g;在UV光照射下,初始阶段TiO2表面水光解产生的质子可使吸附的Hg(Ⅱ)离子从TiO2表面脱附下来,而且Hg(Ⅱ)浓度和pH值越大,脱附现象越明显;随后Hg(Ⅱ)光还原沉积逐渐占主导地位,且光沉积速率受Hg(Ⅱ)浓度、溶液pH值和有机物加入的影响。

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页码：1465 / 1470

页数：6

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共 2 条

[1]

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阎建辉 ;

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