Co/Pt多层膜的结构和饱和磁化强度

被引:2
作者
许思勇
张永俐
机构
[1] 昆明贵金属研究所!中国昆明
关键词
离子束溅射; Co/Pt多层膜; 饱和磁化强度;
D O I
暂无
中图分类号
学科分类号
摘要
采用离子束溅射技术制备Co/Pt多层膜 ,用RBS、小角XRD和断面TEM研究了多层膜的周期性调制结构 ,用VSM研究了磁性层Co和顺磁性层Pt的厚度变化对饱和磁化强度的影响。结果表明 ,多层膜具有良好的周期性层状结构 ,和设计值一致。样品的饱和磁化强度 (Ms)随Co层厚度增加而增大 ,随Pt层的厚度增大而减小。当Co层和Pt层的厚度比一定时 ,样品的饱和磁化强度不受周期数的影响 ,符合Ms=Mcotco/D模型。
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[1]  
GeidemanWA. IEEETrans.FerroelecticsandFrequencyControl . 1991