积累因子影响因素的蒙特卡罗模拟

被引：8

作者：

刘立坡 ^{[1
]}

刘义保 ^{[1
]}

王娟 ^{[2
]}

机构：

[1] 东华理工大学核资源与环境教育部重点实验室

[2] 东华理工大学核工程技术学院

来源：

关键词：

积累因子; 蒙特卡罗模拟; 几何条件; 轫致辐射;

D O I：

暂无

中图分类号：

TL72 [];

学科分类号：

摘要：

利用不同能量的各项同性点源对铁和铅两种靶物质进行照射,使用蒙特卡罗程序实现模拟计算。根据模拟结果讨论了测量系统几何条件(点源、靶物质和探测点的相对位置及探测半径)及轫致辐射对积累因子的影响情况,通过各自影响因素的贡献值不同,说明对辐射防护屏蔽进行设计时,应综合考虑各项参数,更合理地设计屏蔽系统。

引用

页码：108 / 111

页数：4