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CuO/γ-Al2O3上NO吸附及其歧化反应的低温红外光谱研究
被引：1
作者：
伏义
路向明
肖莉
卞国柱
机构：
[1] 中国科学技术大学化学物理系
来源：
关键词：
CuO／γ－Al2O3催化剂,低温红外光谱,NO吸附,NO歧化反应;
D O I：
10.16084/j.cnki.issn1001-3555.1998.02.006
中图分类号：
O643.31 [催化原理];
学科分类号：
摘要：
应用原位低温红外光谱技术，研究了ＮＯ在氧化态和还原态ＣｕＯ／γ－Ａｌ２Ｏ３催化剂上，从－１５０℃到室温的吸附及其在表面上发生的反应．重点研究了歧化反应与温度的关系和歧化产物之一Ｎ２Ｏ在表面的吸附．观察到在－１４５℃的低温下，ＮＯ在催化剂表面即已发生歧化反应；约在－１３０℃时Ｎ２Ｏ在表面吸附峰最强，更高温度时吸附峰减弱．随温度的变化，表面上吸附物种发生了变化．应用双探针分子ＣＯ和ＮＯ的交替吸附的红外光谱研究发现，预吸附ＣＯ阻碍了ＮＯ的氧化，却有利于ＮＯ歧化反应的进行．
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