V+注入TiO2光催化薄膜的性能研究

被引：5

作者：

侯兴刚

刘安东

机构：

[1] 教育部射线束技术与材料改性重点实验室北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心

来源：

关键词：

TiO2薄膜; 离子注入; 紫外-可见光谱; 可见光光催化;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

摘要：

采用V+注入方法制备了能够吸收可见光的TiO2薄膜。紫外-可见光谱表明,随着V+注入量的增加,TiO2薄膜的光学带隙宽度减小。对注入后的TiO2薄膜退火可进一步减小光学带隙宽度。荧光光谱和可见光光催化实验表明,V+注入量为1×1016/cm-2时,TiO2薄膜有最佳可见光光催化降解能力。

引用

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