共 1 条
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M.Yokozana,H.Iwasa and I.Teramoto,Japan J.Appl. Physica .
等离子体化学气相淀积TiO2薄膜材料
被引：7
作者：
沈瑜生
张俊颖
相承宗
机构：
[1] 中国科学技术大学
来源：
关键词：
薄膜;
TiO2;
等离子体化学气相淀积;
气敏元件;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
本文报导了以钛酸丁酯(（C4H9O）4Ti)为反应源物质,采用等离子体化学气相淀积（P-CVD）技术,在不同衬底上淀积出性能良好的TiO2薄膜材料,并对其结构和气敏特性进行了初步研究。
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