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等离子体化学气相淀积TiO2薄膜材料
被引:7
作者
:
沈瑜生
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中国科学技术大学
沈瑜生
张俊颖
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机构:
中国科学技术大学
张俊颖
相承宗
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机构:
中国科学技术大学
相承宗
机构
:
[1]
中国科学技术大学
来源
:
传感技术学报
|
1989年
/ 01期
关键词
:
薄膜;
TiO2;
等离子体化学气相淀积;
气敏元件;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文报导了以钛酸丁酯((C4H9O)4Ti)为反应源物质,采用等离子体化学气相淀积(P-CVD)技术,在不同衬底上淀积出性能良好的TiO2薄膜材料,并对其结构和气敏特性进行了初步研究。
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