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红外焦平面阵列剩余非均匀性的测试和检验
被引:6
作者
:
刘会通
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
哈尔滨工业大学
刘会通
机构
:
[1]
哈尔滨工业大学
来源
:
激光与红外
|
1998年
/ 05期
关键词
:
焦平面陈列,非均匀性校正,数据采集,算法分析;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN210.6 [];
学科分类号
:
摘要
:
提出了一套检验已校正红外焦平面阵列的系统和方法。包括硬件规格、数据精度、记录速度和容量的要求、需要测试的数据以及要进行的算法分析等。根据所采用非均匀性校正算法的不同,需要采集多套数据用于不同目的的测试。
引用
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页码:305 / 307
页数:3
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