旋转腐蚀法在光刻腐蚀中的应用

被引：1

作者：

沈家树

机构：

[1] 重庆光电技术研究所

来源：

关键词：

孔洞; GaAs; 沉积构造; 腐蚀速度; 反应剂; 旋转速度; 转速; 透镜; 腐蚀液; 剖面形态; 有效厚度; 净厚度; 腐蚀法; 反应产物; 生成物;

D O I：

10.16818/j.issn1001-5868.1988.01.017

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

本文提出了一种新型的化学腐蚀方法——旋转腐蚀法。这种腐蚀方法是采用一种特殊的装置,通过旋转使腐蚀液产生离心力,迫使腐蚀液由中心向边缘处流动。这种方法可以给出一个很高的腐蚀速度,而且可以利用液体流向上的特点腐蚀出某些特定的腐蚀坑洞。现已成功地将此方法应用在自带透镜的GaAs发光管的制造中。

引用

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