无机激光热刻蚀材料的研究进展

被引：4

作者：

李豪 ^{[1
,2
]}

耿永友 ^{[1
]}

吴谊群 ^{[1
,3
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室

[2] 中国科学院研究生院

[3] 黑龙江大学无机功能材料化学重点实验室(教育部)

来源：

激光与光电子学进展 | 2011年 / 48卷 / 01期

关键词：

光数据存储; 无机激光热刻蚀材料; 激光热刻蚀技术; 激光热刻蚀机制;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN249 [激光的应用];

学科分类号：

0803 ; 080401 ; 080901 ;

摘要：

激光热刻蚀技术是近年发展起来的利用激光热刻蚀薄膜的热变化阈值特性突破光学衍射极限进行纳米图形制备的新技术,在亚波长纳米结构器件和高密度光盘母盘制造等领域具有广阔的应用前景。阐述了激光热刻蚀技术的基本原理和特点,以及对激光热刻蚀材料性质的要求,综述了相变型激光热刻蚀薄膜材料(包括硫系相变薄膜材料、金属亚氧化物薄膜材料和陶瓷复合薄膜材料)、热分解型激光热刻蚀薄膜材料和化学反应型激光热刻蚀薄膜材料的最新研究进展。分析并总结了无机激光热刻蚀材料的激光热刻蚀机制,在此基础上对无机激光热刻蚀材料的发展趋势和前景进行了探讨。

引用

页码：19 / 25

页数：7